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VOC回収装置 ヘルスケア事業 製品

VOC回収装置

Kフィルター®

Kフィルター®は粒状活性炭より、吸着速度が速く、不純物が少ない高機能な吸着材です。
“Kフィルター®”は東洋紡により日本で商標登録されております。

Kフィルター® VOC回収装置

Kフィルター®を内蔵したVOC回収装置であり、塩化メチレン(リチウム電池セパレータ工程等)や、酢酸エチル(ドライラミネート、接着工程等)等のVOCを高効率かつ高純度に回収できます。また、粒状活性炭式の回収装置に対して品質の良い溶剤回収が可能で、粒状活性炭装置の老朽化の更新の際に、Kフィルター®VOC回収装置を採用頂いております。

特長

VOCを含む排気から熱分解成分の少ない高品質な溶剤を回収できる装置です。

1 優れたVOC除去性能

Kフィルター®の優れた吸脱着特性(高吸着能・吸脱着速度)は、従来の粒状活性炭に対して、高い除去性能を実現し、排出濃度を低減します。

2 高品質な溶剤回収

Kフィルター®の優れた吸脱着特性を引き出すKフィルター®VOC回収装置は、脱着時の溶剤の熱分解を低く押さえ、高品質の溶剤を回収します。回収溶剤は多くの現場で再利用されています。

3 軽量・コンパクト・フレキシブル

優れたKフィルター®の吸脱着性能がVOC回収装置の軽量・コンパクト化を実現します。ユニット化された数多くの機能をそろえ、お客様のニーズに合った装置をフレキシブルに提案します。

4 優れた安全性

装置は常圧使用の構造となっています。VOCの吸着熱の蓄熱が少なく、安全性に優れています。

5 各種のガス処理に適応可能

一般のVOCガスの他、重合性モノマー類(スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル他)の除去・回収、さらには工業ガス(炭酸ガス、水素ガス、塩化水素)中のVOCの除去・回収も可能です。

適用用途・業種

  • ✓ 製薬工場の塩化メチレン、エタノール、IPA等の回収
  • ✓ 印刷・ラミネート工場の酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン等の回収
  • ✓ 半導体・液晶工場のIPA、PGME等の回収
  • ✓ 食品工場のアルコール、香料成分回収
  • ✓ 地下水中のパークレン、トリクレンの回収
  • ✓ その他化学工場の高価溶剤の回収

処理性能例:回収・除去(脱臭)

業種 ガス条件 処理性能
対象物質 風量
(m3/min)
濃度
(ppm)*
排出濃度
(ppm)*
除去率
(%)
製薬、原薬 塩化メチレン 20 9,900 16 99.8
トルエン 40 2,080 2 99.8
化学 ベンゼン他 60 2,760 6 99.8
スチレンモノマー 480 100 1 99.0
パークロロエチレン 960 2,600 6 99.8
半導体・液晶 IPA, MEA他 50 650 3 99.5
酢酸ブチル他 60 700 5 99.3
IPA他 120 380 5 98.7
IPA, MEA他 280 60 1 98.4
食品・発酵 エタノール 50 840 10 99.8
洗浄 トリクロロエチレン 30 150 1 99.3

VOC濃縮装置

大風量で低濃度の塗装コーターから排出される排ガス処理に最適です。

自動車塗装設備等から排出される低濃度ガスを、独自の前処理と高性能なゼオライトハニカムで濃縮して、経済的に燃焼処理を行います。塗装排ガスのVOC排出量削減を省エネで実現するハニローター®VOC濃縮ー燃焼システムを提供します。

ハニローター®VOC濃縮装置

高性能なゼオライトハニカムブロックを使用する事で一般的な塗装排気であれば、35倍程度の高濃縮倍率にて処理が可能 となり、後段の燃焼装置の小型化を実現致します。
独自のシリンダー型濃縮装置を採用する事で、ハニカム交換が容易となりメンテナンス性が極めて良好となります。
“ハニローター®”は東洋紡により日本で商標登録されております。

特長

独自の製法で製造される高性能ハニカム吸着材を内蔵し、独自のシリンダータイプの濃縮装置を採用する事でVOC含有ガスを経済的に処理する事が可能となります。

1 優れたVOC除去性能

独自の製法で製造される活性炭・ゼオライト吸着材の含有比率の高いハニカム吸着材を使用する事で、多種のVOCに対して高い除去率を示します。

2 省エネルギー運転

ハニカム構造なので風速が2m/sと高速でも圧力損失が低く、動力は小さくてすみます。
20倍以上の高い濃縮倍率(濃縮倍率=原ガス風量/脱着ガス風量)が可能で、燃焼装置や回収装置を小型化する事で大幅なランニングコスト低減が可能となります。

3 メンテンナンスが容易

軽量のハニカムブロックを採用しており、重機を必要とせずハニカム吸着材の交換が可能となります。

適用用途・業種

  • ✓ 塗装工場のトルエン、キシレン等処理
  • ✓ 半導体・液晶工場のIPA、PGME等処理
  • ✓ 印刷工場の酢酸エチル、メチルエチルケトン等の処理
  • ✓ 製薬工場の塩化メチレン、トルエン処理
  • ✓ 化学工場のベンゼン、スチレン、パークレン処理
  • ✓ 洗浄工場のトリクロロエチレン処理
  • ✓ 食品工場のエタノール処理

処理性能表

ガス条件 処理性能
物質名 風量
(m3/min)
原ガス濃度
(ppm)*
処理ガス濃度
(ppm)*
濃縮倍率
(times)
除去率
(%)
トルエン、キシレン他 1,100 83 3 35 96
400 92 6 20 93
PGME、PGMEA他 1,650 150 1 22 99
酢酸エチル他 1,400 1,813 18 3 99
塩化メチレン 600 100 3 10 97
トリクロロエチレン 200 50 2 12 96
エタノール他 1,200 493 15 7 97

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